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功能参数 电源功率(kW):380V50HZ 加热功率(kW):15~38 流量输出(L/min):2~20 流量控制...
油冷系统 5℃~135℃
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液冷CDU分配单元 利用液冷板热交换对服务器内部主要热源进行冷却,减少风冷系统的使用 通过液冷CD...
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MD在热测试方面的zui大创新是热控制卡盘系列,主要用于半导体晶片的性能测试、建模、工艺开发、设计缺陷...
快速温变控温卡盘MD
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半导体行业广泛应用 适用于半导体晶圆厂的刻蚀、化学气相沉积、物理气相沉积工艺制程,对ETCH、CVD、PV...
Chiller 直冷型
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半导体温控装置 主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制40°C以内,加热方式采用压缩机...
Chiller 换热型 系统无压缩机
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半导体温控装置 主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制40°C以内,加热方式采用压缩机...
Chiller低温复叠制冷系列
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半导体温控装置 主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制40°C以内,加热方式采用压缩机...
Chiller 双变频
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半导体温控装置 主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制40°C以内,加热方式采用压缩机...
半导体控温装置
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气体处理量:100m³/h ~ 2500m³/h 处理温度:3℃ -40℃ -75℃ -115℃ 将挥发VOCs气体导入到设备冷箱...
VOCs冷凝回收系统
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无锡冠亚专业生产超低温冷冻机,制冷温度范围从-150度到-5度,可满足不同制冷温度需求。 超低温冷冻...
LN -60℃~-10℃
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深冷处理技术的改进效果是渗入处理件的内部(整体效应),因为不仅限于表面,所以对刃具进行重磨再用时...
GY -65℃~-10℃
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深冷处理技术的改进效果是渗入处理件的内部(整体效应),因为不仅限于表面,所以对刃具进行重磨再用时...
GX -80℃~-10℃
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深冷处理技术的改进效果是渗入处理件的内部(整体效应),因为不仅限于表面,所以对刃具进行重磨再用时...
GY -150℃~0℃
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深冷处理技术的改进效果是渗入处理件的内部(整体效应),因为不仅限于表面,所以对刃具进行重磨再用时...
GY -100℃~60℃
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无锡冠亚专业生产直冷式冷冻机,非常宽的制冷温度范围,可控温度-120℃~-90℃。采用二次过冷,制冷速度快...
直冷式冷冻机 ZLJ -120℃~-90℃
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无锡冠亚专业生产低温直冷机,非常宽的制冷温度范围,可控温度-120℃~-90℃。采用二次过冷,制冷速度快,...
低温直冷机 ZLJ -80℃~-45℃
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无锡冠亚专业生产直冷式冷冻机,非常宽的制冷温度范围,可控温度-120℃~-90℃。采用二次过冷,制冷速度快...
直冷机 ZLJ -40℃~-15℃
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无锡冠亚专业生产超低温直冷机,非常宽的制冷温度范围,可控温度-120℃~-90℃。采用二次过冷,制冷速度快...
超低温直冷机 SLJ -110℃~-150℃
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气体换热系统耐压20bar;采用二次过冷技术,制冷迅速,极限温度低; 整机安装, 在工厂已将系统测试...
LQ -110℃
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气体换热系统耐压20bar;采用二次过冷技术,制冷迅速,极限温度低; 整机安装, 在工厂已将系统测试...
LQ -75℃~-40℃
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无锡冠亚恒温制冷(LNEYA)的液体温度控制技术,主要用于半导体测试中的温度测试模拟,具有宽温度定向和...
射流式高低温冲击测试机AES -115℃~225℃
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采用丹佛斯、美优乐、谷轮等国际品牌压缩机,性能稳定,可连续工作;人性化设计,灵活更方便;微电脑温...
FL-800
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无锡冠亚专业研发生产精mi冷却水循环器,控温范围5度到35度,导热液体温度可调节,控温精度gao,精度为±...
FL 5℃~35℃
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无锡冠亚专业研发生产低温制冷循环器,制冷温度范围从-125度到-20度,采用电脑复叠型温度控制器和PT100...
LX -25℃~30℃
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