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制冷加热动态控温系统
广泛运用在半导体制程中对反应腔室控温、热沉板控温及需要传热介质 不可燃流体控温场所,适用于半导体芯...
LTS -80℃~80℃
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广泛运用在半导体制程中对反应腔室控温、热沉板控温及需要传热介质 不可燃流体控温场所,适用于半导体芯...
LTS -60℃~80℃
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广泛运用在半导体制程中对反应腔室控温、热沉板控温及需要传热介质 不可燃流体控温场所,适用于半导体芯...
LTS -40℃~80℃
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广泛运用在半导体制程中对反应腔室控温、热沉板控温及需要传热介质 不可燃流体控温场所,适用于半导体芯...
LTS -20℃~80℃
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无锡冠亚专业生产研发加热系统,控温范围50度到300度,适用于制药、化工企业各项工艺生产、实验使用的需...
UC +50℃~+300℃
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无锡冠亚专业生产研发加热系统,控温范围50度到300度,适用于制药、化工企业各项工艺生产、实验使用的需...
UC +50℃~+170℃
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无锡冠亚制冷加热循环器可实现-45度到250度动态控温,同时具备加热制冷功能,带2个LED显示控制器,可以...
HRT -45℃~+250℃
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无锡冠亚制冷加热循环器可实现-25度到200度动态控温,同时具备加热制冷功能,带2个LED显示控制器,可以...
HR -25℃~200℃
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针对微通道反应器持液量少换热能力强、循环系统压降大特点专门设计开发。优化温度采样及响应速度,专门设...
WTD -70°C~200°C
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针对微通道反应器持液量少换热能力强、循环系统压降大特点专门设计开发。优化温度采样及响应速度,专门设...
WTD -45°C~250°C 双温区
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针对微通道反应器持液量少换热能力强、循环系统压降大特点专门设计开发。优化温度采样及响应速度,专门设...
WTD -70°C~250°C
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高精度高低温控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、...
TES -60℃~200℃
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高精度高低温控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、...
TES -85℃~200℃
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高精度高低温控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、...
TES -45℃~250℃
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加热控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层反应...
UST +10℃~+300℃
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制冷加热控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层...
SUNDI -100℃~+100℃
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制冷加热控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层...
SUNDI -90℃~+250℃
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制冷加热控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层...
SUNDI -80℃~+250℃
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制冷加热控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层...
SUNDI -70℃~+250℃
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制冷加热控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层...
SUNDI -60℃~+250℃
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制冷加热控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层...
SUDNI -45℃~+300℃
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制冷加热控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层...
SUNDI -45℃~+250℃
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制冷加热控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层...
SUNDI -25℃~+300℃
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制冷加热控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层...
SUNDI -25℃~+200℃
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