TCU控温单元

TCU温度控制单元

无锡冠亚TCU温控系统可实现-120度~300度的动态控温，TCU温控系统采用现有的热能（如蒸汽、冷却水及超低温液体——即“初级系统”）基础设施集成到用来控制工艺设备温度的单流体系统或二级回路中。这就完成了只有一种热传导液体流入到反应容器的夹套中（而不是直接通入蒸汽、冷却水或超低温液体），通过运算控制整个反应过程温度。

ZLF系列——直通式控流量参数

ZLF-N系列采用主冷源/或主热源通过比例调节系统流量，控制进入反应釜夹套的热量，同时还有一组用于加热或冷却的换热器控制升温或降温。具备ZLF-N功能外，ZLF- NS增加一组换热器用于高温降温功能；ZLF- NH增加电辅助加热功能；ZLF- NSH增加一组换热器用于高温降温功能和电辅助加热功能。

型号	ZLF系列
温度范围	-45°C ~ +250°C

SR系列——采用二次换热

控温范围：-120°C to +250°C

SR系列采用一组冷却换热器，一组加热换热器，通过比例调节阀控制冷热量进入到换热器，再通过统一介质输入到反应釜夹套进行换热控温，系统内置有膨胀罐。具备SR- N功能之外，SR-NS系列增加一组换热器用于高温降温功能；SR-NH系列增加电辅助加热功能；SR-NSH系列增加一组换热器用于高温降温功能和电辅助加热功能。

型号	SR系列
温度范围	-120°C ~ +250°C

ST系列——热水加热系统

控温范围：10°C to +135°C

应用：在医药、化工企业的工艺生产中需要采用蒸汽加热，实现工艺保温或对工艺进行热水循环加热。为满广大客户需要，根据我们多年设计生产经验，特设计由蒸汽作为热源、常温水作为水源的热水控温装置。

型号	ST系列
温度范围	+10°C ~ +135°C

集散温度控制系统——化学合成工艺过程控制系统

DCS集散式自动控制系统应用计算机控制技术，可以使制药生产的工艺操作和参数得到科学的、有效的、严格的监测和控制，实现制药生产的连续化和自动化。

本方案基于先进的过程控制系统SIMATIC PCS 7设计是参考新版GMP药品生产质量管理规范中对实时放行检测及国际制药工程学会（ISPE）提出的产品生命周期实施的先进理念，建立制药生产全过程质量监控体系，实现从原料至成品的生产全过程质量管理，使得药品生产过程数字化、规范化、并具备数据可追溯性功能和预警功能，全面提高制药生产质控水平。

型号	集散温度控制系统
温度范围	集散式控温系统

TCU温度控制单元优势

用户可以在一个较宽的温度范围得到一个密闭的、可重复的温度控制，可实现-120度～300度控温；
避免了传统设备设施的更换及夹套维护的需求;较小的流体体积也保证了控制回路快速的反应并且热反应延迟很小；
内置电加热导热油辅助系统，可根据需求自动开启辅助加热系统，降低蒸汽使用压力；
可以通过快速运行准确配比各热量需求，达到节约能源目的；
通过准确快速运算控制整个反应过程温度，对于整个反应过程中出现放热和吸热反应进行快速响应控制；
预留有标准化接口，可根据实际需求增加冷热源换热模块；
可选择控制反应过程温度和单流体温度，同时反应过程温度与导热单流体温度之间的温差是可设定可控制的；
可进行配方管理与生产过程记录；

无锡冠亚恒温制冷提供7*24的免费咨询，您只需要提供自己控温需求，由我们给你提供全面的解决方案！

联系我们：400-100-3173

【热门推荐】制冷加热动态控温系统

SUNDI系列制冷加热控温系统

控温范围：-120°C ~ +350°C

特点：不仅可以控制导热介质温度，还可以控制反应物料温度

应用：各种反应器（微通道、玻璃、夹套反应器等）、蒸馏或萃取系统、实验室、大学、研究所、航空航天、汽车工业、半导体和电气测试、化学、制药、石化、生化、医疗、医院、研发车间、航空航天和生物等行业。

型号	SUNDI-320/420w/430w	SUNDI-1系列	SUNDI-2系列	SUNDI-3系列	SUNDI-5系列	SUNDI-6系列	SUNDI-7系列	SUNDI-8系列	SUNDI-9系列	SUNDI-10系列
温度范围	-40 ~ +200°C	-10 ~ +200°C	-25 ~ +200°C	-25 ~ +300°C	-45 ~ +300°C	-60 ~ +250°C	-70 ~ +250°C	-80 ~ +250°C	-90 ~ +250°C	-100 ~ +100°C

制冷加热控温系统典型应用

高压反应釜冷热源动态恒温控制
双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制
双层反应釜冷热源动态恒温控制
微通道反应器冷热源恒温控制
小型恒温控制系统、蒸馏系统控温
材料低温高温老化测试
组合化学冷源热源恒温控制
半导体设备冷却加热
真空室制冷加热恒温控制

温度过程控制原理（控制反应釜物料）

1、改变控制设定值的方法，能够尽快的响应过程中的系统滞后，得到较小的系统过冲。控制由两组PID（每组PID是可变的）控制回路构成，这两组控制回路称为：主回路和从回路，主回路的控制输出作为从回路的设定值。系统采用带有前馈PV ,主控回路的PID运行结果的输出与前馈PV信号复合后作为从控制回路的设定值，通过这样对温度变化梯度控制，保证系统控温精度。（一般抗滞后串级控制）

2、专门设计的滞后预估器（无模型自建树算法）产生一个代替过程变量y（t）的动态信号yc（t）来作为反馈信号。对控制器产生一个e（t）信号，使控制器预判控制作用没有大的滞后，这样控制器总是能够产生一个合适的控制信号。也就是说，即使存在大滞后，这个动态信号yc（t）也能保持反馈回路正常工作.而用一般PID来控制具有显著时间滞后的过程，则控制器输出在滞后时间内由于得不到合适的反馈信号保持增长，从而导致系统响应超调大甚至使系统失控。

3、通过三点采样（物料温度点、温控系统出口温度、温控系统进口温度），通过我们公司自创无模型自建树算法和一般抗滞后串级算法相结合。

其他控温产品

低温冷冻机